LB法および自己凝集法により作製した超薄膜の電子スペクトル—4-(4-オクタデシルオキシフェニル)エチニルピリジン—

Nippon Kagaku Kaishi Pub Date : 2001-08-10 DOI:10.1246/NIKKASHI.2001.443

昭彦渋谷, 潤大窪, 開篠崎, 清伍大野, 美貴長谷川, 賢一熊谷, 敏彦星

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Abstract

両親媒性物質，4-(4-オクタデシルオキシフェニル)エチニルピリジン(ODOP)を新たに合成し，この物質の超薄膜をLB法および自己凝集法により作製した．ODOPのLB膜作製における最適表面圧は，49.0 mN m−1であった．自己組織化膜は，溶質濃度が3.0 × 10−4 mol dm−3以下では形成されないことがわかった．すなわち，ODOPの自己組織化膜を形成する際には，溶質の濃度に限界値がある．これらの膜の電子的性質を電子吸収，偏光吸収およびX線光電子スペクトルの立場から考察した．両方法により作製したODOPの超薄膜の構造は，同一であることがわかった．種々の表面圧で作製したLB膜のX線光電子スペクトルを測定した．単分子的に分散した系でODOPは316.9 nm(シクロヘキサン中)に第一吸収帯を示す．超薄膜を形成すると，この第一吸収帯は二つの帯，すなわち強度の強い306 nm帯と弱い ≈350 nm帯に分裂する．このスペクトル変化を励起子モデルにより考察した結果，超薄膜内での分子の配列はHerring bone構造であることが示唆された．

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LB法和自凝聚法制备的超薄膜电子谱- 4-(4-八角酰氧苯)乙基吡啶-

新合成了母媒性物质4-(4-辛酰羟苯基)乙基吡啶(ODOP)，并通过LB法和自凝聚法制备了该物质的超薄膜。ODOP制作LB膜的最佳表面压为49.0 mN m - 1。研究发现，溶质浓度低于3.0 × 10 - 4mol dm - 3时无法形成自组装膜。也就是说，在形成ODOP的自组装膜时，溶质的浓度有极限值。从电子吸收、偏振吸收以及X射线光电子谱的角度考察了这些膜的电子性质。据悉，采用这两种方法制成的ODOP超薄薄膜的结构相同。测量了在各种表面压下制成的LB膜的X射线光电子谱。在单分子分散的体系中，ODOP在316.9 nm(环己烷中)显示出第一吸收带。一旦形成超薄膜，该第一吸收带就会分裂成两个带，即强度强的306nm带和强度弱的(起始)350nm带。通过激发子模型考察这种光谱变化的结果表明，超薄膜内分子的排列是Herring bone结构。

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