Newly Designed, Faster, and More Sensitive Scanning Capacitance Microscope for Failure Analysis

International Symposium for Testing and Failure Analysis Pub Date : 2022-10-30 DOI:10.31399/asm.cp.istfa2022p0434

Haigang Zhang, M. Kocuń, B. Ohler, R. Proksch

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Abstract

A new scanning capacitance microscope, with an optimized, modern RF circuitry is described. The new design results in improved ease of use and sensitivity. We will discuss the design details and show application examples on semiconductor devices and ferroelectric materials.

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新设计，更快，更敏感的扫描电容显微镜的故障分析

介绍了一种新型扫描电容显微镜，具有优化的现代射频电路。新设计提高了使用的便利性和灵敏度。我们将讨论设计细节，并展示在半导体器件和铁电材料上的应用实例。

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International Symposium for Testing and Failure Analysis

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