В.С. Ковшов, Антон Викторович Никонов, К.О. Болтарь
{"title":"Исследование температурной зависимости границ спектральной характеристики\nчувствительности фотомодулей на основе КРТ","authors":"В.С. Ковшов, Антон Викторович Никонов, К.О. Болтарь","doi":"10.34077/rcsp2021-141","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Повышение требований к тактико-техническим характеристикам оптико-электронных систем ИКдиапазона, наблюдаемое в последнее десятилетие, является катализатором для непрерывного\nсовершенствования и оптимизации технологии изготовления современных фотоприемных устройств.\nОсобые требования предъявляются в первую очередь к полупроводниковым материалам и\nсоединениям на их основе, используемым для изготовления фоточувствительных элементов.\nФотомодули на основе гетероэпитаксиальных структур тройных соединений кадмий-ртуть-теллур\n(КРТ) стабильно занимают широкую область рынка изделий фотоэлектроники [1, 2]. Вместе с тем,\nперед разработчиками стоит вопрос совершенствования технологии изготовления таких фотомодулей.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"27 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-141","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Abstract
Повышение требований к тактико-техническим характеристикам оптико-электронных систем ИКдиапазона, наблюдаемое в последнее десятилетие, является катализатором для непрерывного
совершенствования и оптимизации технологии изготовления современных фотоприемных устройств.
Особые требования предъявляются в первую очередь к полупроводниковым материалам и
соединениям на их основе, используемым для изготовления фоточувствительных элементов.
Фотомодули на основе гетероэпитаксиальных структур тройных соединений кадмий-ртуть-теллур
(КРТ) стабильно занимают широкую область рынка изделий фотоэлектроники [1, 2]. Вместе с тем,
перед разработчиками стоит вопрос совершенствования технологии изготовления таких фотомодулей.