Optymalizacja parametrów procesu wytwarzania powłok niklowych metodą selektywną tamponową

Abstract

Celem pracy było wytworzenie powłok niklowych metodą selektywną tamponową o właściwościach ochronnych i dekoracyjnych oraz zoptymalizowanie warunków osadzania. Określono wpływ czasu trwania procesu oraz stosowanego napięcia osadzania na grubość wytworzonych powłok. Badano strukturę przekrojów poprzecznych, morfologię powierzchni, chropowatość i mikrotwardość powłok niklowych. Przeprowadzone badania pozwoliły wytypować najbardziej optymalne parametry procesu osadzania. Opracowano skład roztworu do selektywnego tamponowego osadzania powłok niklowych.