Электрические характеристики MWIR и LWIR nBn-структур на основе МЛЭ HgCdTe

Александр Васильевич Войцеховский, Сергей Николаевич Несмелов, Станислав Михайлович Дзядух
{"title":"Электрические характеристики MWIR и LWIR nBn-структур на основе МЛЭ HgCdTe","authors":"Александр Васильевич Войцеховский, Сергей Николаевич Несмелов, Станислав Михайлович Дзядух","doi":"10.34077/rcsp2021-136","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Униполярные барьерные детекторы (например, в nBn-конфигурации) обеспечивают возможности\nповышения рабочей температуры инфракрасных детекторов [1] за счет подавления некоторых\nкомпонент темнового тока (в частности, поверхностной утечки и генерации в обедненных областях).\nНаибольшие успехи достигнуты при создании барьерных детекторов на основе материалов III-V c\nпостоянной решетки 6.1 Å (например, на основе систем InAsSb/AlAsSb, InAs/GaSb), из-за того, что при\nиспользовании таких материалов можно обеспечить отсутствие потенциального барьера в валентной\nзоне. Помимо этого, использование барьерной архитектуры в детекторах на основе материалов III-V\nпозволяет увеличить рабочую температуру приборов, поскольку в традиционных детекторах на основе\nтаких материалов доминируют шумы, связанные с генерацией в обедненных областях. При\nизготовлении барьерных детекторов на основе HgCdTe, выращенного методом молекулярно-лучевой\nэпитаксии (МЛЭ), исчезает необходимость использования ионной имплантации, которая снижает\nкачество материала из-за генерации радиационных дефектов.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"51 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-136","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0

Abstract

Униполярные барьерные детекторы (например, в nBn-конфигурации) обеспечивают возможности повышения рабочей температуры инфракрасных детекторов [1] за счет подавления некоторых компонент темнового тока (в частности, поверхностной утечки и генерации в обедненных областях). Наибольшие успехи достигнуты при создании барьерных детекторов на основе материалов III-V c постоянной решетки 6.1 Å (например, на основе систем InAsSb/AlAsSb, InAs/GaSb), из-за того, что при использовании таких материалов можно обеспечить отсутствие потенциального барьера в валентной зоне. Помимо этого, использование барьерной архитектуры в детекторах на основе материалов III-V позволяет увеличить рабочую температуру приборов, поскольку в традиционных детекторах на основе таких материалов доминируют шумы, связанные с генерацией в обедненных областях. При изготовлении барьерных детекторов на основе HgCdTe, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ), исчезает необходимость использования ионной имплантации, которая снижает качество материала из-за генерации радиационных дефектов.
单极屏障探测器(如nBn配置)通过抑制暗电流的某些成分(特别是贫化区域的表面泄漏和产生)可以提高红外探测器的工作温度(1)。第三-V型晶格6.1 A(例如,基于InAsSb/AlAsSb、InAs/GaSb)的材料,实现了最大的成功,因为使用这些材料可以确保瓦伦丁区没有潜在的障碍。此外,使用III- vv材料的跨栏建筑可以提高仪器的工作温度,因为传统的基于材料的探测器主要由贫困地区的生产噪音控制。通过分子辐射普导(me)培育的HgCdTe屏障探测器,不再需要使用离子植入物,因为辐射缺陷的产生降低了材料的质量。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
求助全文
约1分钟内获得全文 求助全文
来源期刊
自引率
0.00%
发文量
0
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
确定
请完成安全验证×
copy
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
右上角分享
点击右上角分享
0
联系我们:info@booksci.cn Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。 Copyright © 2023 布克学术 All rights reserved.
京ICP备2023020795号-1
ghs 京公网安备 11010802042870号
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:481959085
Book学术官方微信