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18668中文名称：
材料化学杂志
期刊缩写：
J. Mater. Chem. C
影响因子：
5.7
ISSN：
print: 2050-7526
on-line: 2050-7534
on-line: 2050-7534
研究领域：
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY-PHYSICS, APPLIED
h-index：
88
自引率：
6.20%
Gold OA文章占比：
10.74%
原创研究文献占比：
92.12%
SCI收录类型：
Science Citation Index Expanded (SCIE) || Scopus (CiteScore)
期刊官网：
期刊介绍英文：
The Journal of Materials Chemistry is divided into three distinct sections, A, B, and C, each catering to specific applications of the materials under study:
Journal of Materials Chemistry A focuses primarily on materials intended for applications in energy and sustainability.
Journal of Materials Chemistry B specializes in materials designed for applications in biology and medicine.
Journal of Materials Chemistry C is dedicated to materials suitable for applications in optical, magnetic, and electronic devices.
Example topic areas within the scope of Journal of Materials Chemistry C are listed below. This list is neither exhaustive nor exclusive.
Bioelectronics
Conductors
Detectors
Dielectrics
Displays
Ferroelectrics
Lasers
LEDs
Lighting
Liquid crystals
Memory
Metamaterials
Multiferroics
Photonics
Photovoltaics
Semiconductors
Sensors
Single molecule conductors
Spintronics
Superconductors
Thermoelectrics
Topological insulators
Transistors
期刊介绍中文：
《材料化学杂志》的A、B和C版涵盖了材料化学领域的高质量研究。这些期刊专注于报告材料新理解、应用、性能和合成的理论或实验研究。历史悠久的这些期刊通过同行评审和出版为跨学科社区提供高效而严格的服务。期刊由由主编和副主编组成的国际团队领导，他们都是各自领域的活跃研究人员。A、B和C版根据所研究材料的预期应用进行分门别类。一般来说，Journal of Materials Chemistry A关注能源和可持续发展方面的应用；Journal of Materials Chemistry B关注生物学和医学方面的应用；Journal of Materials Chemistry C关注光、磁和电子器件方面的应用。尽管某些领域可能适用于多个《材料化学杂志》期刊，但我们鼓励研究人员根据其特定文章的内容选择最适合的期刊进行投稿。
CiteScore：
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 |
|---|---|---|---|
| 10.8 | 1.358 | 1.034 | 学科 排名 百分位 大类：Materials Science 小类：Materials Chemistry 32 / 317 90% 大类：Chemistry 小类：General Chemistry 51 / 408 87% |
发文信息
中科院SCI期刊分区
| 大类 | 小类 | TOP期刊 | 综述期刊 |
|---|---|---|---|
| 2区 材料科学 |
2区
物理：应用
PHYSICS, APPLIED
3区
材料科学：综合
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
|
否 | 否 |
WOS期刊分区
| 学科分类 |
|---|
Q2MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY Q1PHYSICS, APPLIED |
历年影响因子
| 2015年 | 5.0660 |
|---|---|
| 2016年 | 5.2560 |
| 2017年 | 5.9760 |
| 2018年 | 6.6410 |
| 2019年 | 7.0590 |
| 2020年 | 7.3930 |
| 2021年 | 8.0670 |
| 2022年 | 6.4000 |
| 2023年 | 5.7000 |
历年发表
| 2012年 | 0 |
|---|---|
| 2013年 | 1145 |
| 2014年 | 1433 |
| 2015年 | 1701 |
| 2016年 | 1561 |
| 2017年 | 2170 |
| 2018年 | 1766 |
| 2019年 | 1913 |
| 2020年 | 2104 |
| 2021年 | 1952 |
| 2022年 | 1468 |
投稿信息
出版语言：
English
出版国家(地区)：
ENGLAND
出版商：
Royal Society of Chemistry
编辑部地址：
THOMAS GRAHAM HOUSE, SCIENCE PARK, MILTON RD, CAMBRIDGE, ENGLAND, CAMBS, CB4 0WF
Journal of Materials Chemistry C - 最新文献
Revealing the effect of conductive mechanism on the voltage endurance of ferroelectric thin films via controlling the deposition temperature for reaching high energy storage capability†
Pub Date : 2024-11-01 DOI: 10.1039/D4TC03879G Hongmei Jing, Shibo Zhao, Ting Wang, Wanbiao Hu, Liming Diwu, Jingru Xu, Peiqiao Han, Miao Liu, Zhuo Wang and Zixiong SunCorrection: Tuning the electrical conductance of oligo(phenylene-ethynylene) derivatives-PbS quantum-dot bilayers
Pub Date : 2024-11-01 DOI: 10.1039/D4TC90182G Ali Ismael, Xintai Wang, Alaa Al-Jobory, Shanglong Ning, Turki Alotaibi, Bashayr Alanazi, Hanan Althobaiti, Junsheng Wang, Naixu Wei, Christopher J. B. Ford and Colin J. LambertAtomic layer deposition of oxide semiconductor thin films for transistor applications: a review
Pub Date : 2024-10-31 DOI: 10.1039/D4TC03452J Inhong Hwang, Minki Choe, Dahui Jeon and In-Hwan Baek
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本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
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