查看最新文献
订阅
分享
968
影响因子：
0.166
ISSN：
2578-3769
主管：
中国科学院
主办单位：
中国科学院微电子研究所
发文信息
发文量：
46
被引量：
4
历年影响因子
历年发表
投稿信息
出版周期：
季刊
出版语言：
中文
审稿时长：
4 weeks
微电子制造学报 - 最新文献
New Progress of China's Integrated Circuit Design Industry
Pub Date : 2021-01-01 DOI: 10.33079/jomm.21040203 Q. Yan, Huwen DingImprovement of Environment Stability of an i-Line Chemically Amplified Photoresist
Pub Date : 2021-01-01 DOI: 10.33079/jomm.21040201 Haibo Li, Qiang Yang, Jia Sun, Jie Li, Meng Guo, Bing Li
免责声明：
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
京公网安备 11010802042870号
