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227期刊缩写：
Fujitsu Sci. Tech. J.
影响因子：
0.1
ISSN：
print: 0016-2523
研究领域：
工程技术-工程：电子与电气
h-index：
20
自引率：
0.00%
Gold OA文章占比：
0.00%
原创研究文献占比：
0.00%
SCI收录类型：
Science Citation Index Expanded (SCIE) || Scopus (CiteScore)
期刊介绍英文：
FSTJ is published by FUJITSU LIMITED to introduce the FUJITSU Group''s research and development activities, cutting-edge technologies, products, and solution services.
CiteScore：
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 |
|---|---|---|---|
| 0.124 | 0.157 | 学科 排名 百分位 |
发文信息
中科院SCI期刊分区
| 大类 | 小类 | TOP期刊 | 综述期刊 |
|---|---|---|---|
| 4区 计算机科学 |
4区
工程：电子与电气
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
|
否 | 否 |
WOS期刊分区
历年影响因子
| 2015年 | 0.1000 |
|---|---|
| 2016年 | 0.1910 |
| 2017年 | 0.1760 |
| 2018年 | 0.3500 |
| 2019年 | 0.2230 |
| 2020年 | 0.2930 |
| 2021年 | 0.2660 |
| 2022年 | 0.1000 |
历年发表
| 2012年 | 2 |
|---|---|
| 2013年 | 2 |
| 2014年 | 1 |
| 2015年 | 1 |
| 2016年 | 4 |
| 2017年 | 23 |
| 2018年 | 1 |
| 2019年 | 2 |
| 2020年 | 0 |
| 2021年 | 0 |
投稿信息
出版周期：
Quarterly
出版语言：
English
出版国家(地区)：
JAPAN
审稿时长：
6-12 weeks
出版商：
Fujitsu Ltd
编辑部地址：
FUJITSU LTD, 1015 KAMIKODANAKU NAKAHARA-KU, KAWASAKI, JAPAN, 211
Fujitsu Scientific & Technical Journal - 最新文献
Service Oriented Platform
Pub Date : 2010-01-01 DOI: 10.1007/978-3-540-71872-7_6 H. Yoshida, R. Take, H. Kishimoto, Yoshinobu HibiQuantitative ultra shallow dopant profile measurement by scanning capacitance microscope
Pub Date : 2002-01-01 DOI: 10.1201/9781351074629-112 Y. Kikuchi, T. Kubo, M. KaseLaser welding of copper and copper alloys
Pub Date : 1991-01-01 DOI: 10.2351/1.4745272 K. Shimizu, K. Hashimoto
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本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
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