Crystal Research and Technology

Crystal Research and Technology
期刊缩写:
Cryst. Res. Technol.
影响因子:
1.5
ISSN:
print: 1521-4079
on-line: 0232-1300
研究领域:
CRYSTALLOGRAPHY
h-index:
57
自引率:
6.70%
Gold OA文章占比:
9.09%
原创研究文献占比:
93.69%
SCI收录类型:
Science Citation Index Expanded (SCIE) || Scopus (CiteScore)
期刊介绍英文:
The journal Crystal Research and Technology is a pure online Journal (since 2012). Crystal Research and Technology is an international journal examining all aspects of research within experimental, industrial, and theoretical crystallography. The journal covers the relevant aspects of -crystal growth techniques and phenomena (including bulk growth, thin films) -modern crystalline materials (e.g. smart materials, nanocrystals, quasicrystals, liquid crystals) -industrial crystallisation -application of crystals in materials science, electronics, data storage, and optics -experimental, simulation and theoretical studies of the structural properties of crystals -crystallographic computing
CiteScore:
CiteScoreSJRSNIPCiteScore排名
2.50.3460.618
学科
排名
百分位
大类:Chemistry
小类:General Chemistry
233 / 408
43%
大类:Physics and Astronomy
小类:Condensed Matter Physics
271 / 434
37%
大类:Materials Science
小类:General Materials Science
292 / 463
37%
发文信息
中科院SCI期刊分区
大类 小类 TOP期刊 综述期刊
4区 材料科学
4区 晶体学 CRYSTALLOGRAPHY
WOS期刊分区
历年影响因子
2021年1.6390
2022年1.5000
历年发表
2012年177
2013年171
2014年190
2015年181
2016年137
2017年158
2018年143
2019年115
2020年108
2021年137
2022年121
投稿信息
出版语言:
English
出版国家(地区):
GERMANY
审稿时长:
1.9 months
出版商:
John Wiley and Sons Inc.
编辑部地址:
POSTFACH 101161, WEINHEIM, GERMANY, 69451

Crystal Research and Technology - 最新文献

Issue Information: Crystal Research and Technology 11'2024

Pub Date : 2024-11-11 DOI: 10.1002/crat.202470044

Ca(Mo,W)O4 Solid Solutions Formation in CaMoO4-CaWO4 System

Pub Date : 2024-10-25 DOI: 10.1002/crat.202400127 D.M. Khramtsova, A.B. Kuznetsov, V.D. Grigorieva, A.A. Ryadun, A.E. Musikhin, K.A. Kokh

Research on the Heterogeneous Deformation Behavior of Nickel Base Alloy Based on CPFEM

Pub Date : 2024-10-25 DOI: 10.1002/crat.202400170 Erqiang Liu, Mengchun You, Hongwei Zhao, Jianguo Wu, Xianliang Yang, Gesheng Xiao, Jinbao Lin
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