IEEE Transactions on Plasma Science

IEEE Transactions on Plasma Science
期刊缩写:
IEEE Trans. Plasma Sci.
影响因子:
1.3
ISSN:
print: 0093-3813
on-line: 1939-9375
研究领域:
物理-物理:流体与等离子体
h-index:
98
自引率:
20.00%
Gold OA文章占比:
3.86%
原创研究文献占比:
99.38%
SCI收录类型:
Science Citation Index Expanded (SCIE) || Scopus (CiteScore)
期刊介绍英文:
The scope covers all aspects of the theory and application of plasma science. It includes the following areas: magnetohydrodynamics; thermionics and plasma diodes; basic plasma phenomena; gaseous electronics; microwave/plasma interaction; electron, ion, and plasma sources; space plasmas; intense electron and ion beams; laser-plasma interactions; plasma diagnostics; plasma chemistry and processing; solid-state plasmas; plasma heating; plasma for controlled fusion research; high energy density plasmas; industrial/commercial applications of plasma physics; plasma waves and instabilities; and high power microwave and submillimeter wave generation.
CiteScore:
CiteScoreSJRSNIPCiteScore排名
3.00.4170.861
学科
排名
百分位
大类:Physics and Astronomy
小类:Nuclear and High Energy Physics
42 / 87
52%
大类:Physics and Astronomy
小类:Condensed Matter Physics
247 / 434
43%
发文信息
中科院SCI期刊分区
大类 小类 TOP期刊 综述期刊
4区 物理与天体物理
4区 物理:流体与等离子体 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
WOS期刊分区
学科分类
Q3PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
历年影响因子
2015年0.9580
2016年1.0520
2017年1.2530
2018年1.3250
2019年1.3090
2020年1.2220
2021年1.3680
2022年1.5000
2023年1.3000
历年发表
2012年620
2013年680
2014年917
2015年741
2016年675
2017年664
2018年718
2019年859
2020年678
2021年617
2022年538
投稿信息
出版周期:
Bimonthly
出版语言:
English
出版国家(地区):
UNITED STATES
接受率:
100%
审稿时长:
3.8 months
论文处理费:
¥660
出版商:
Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
编辑部地址:
IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141

IEEE Transactions on Plasma Science - 最新文献

IEEE Access

Pub Date : 2024-12-09 DOI: 10.1109/TPS.2024.3506425

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Pub Date : 2024-12-09 DOI: 10.1109/TPS.2024.3504907

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Pub Date : 2024-12-09 DOI: 10.1109/TPS.2024.3506233
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