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Advanced Etch Technology for Nanopatterning VIII - 最新文献
Effective metal cleaning to increase MTBC by scanning ECR plasma (Conference Presentation)
Pub Date : 2019-03-18 DOI: 10.1117/12.2514932 K. Hirota, Nanako Tamari, S. Shirayone, M. SumiyaEnabling complimentary FET (CFET) fabrication: selective, isotropic etch of Group IV semiconductors (Conference Presentation)
Pub Date : 2019-03-18 DOI: 10.1117/12.2514741 S. Kal, Y. Oniki, Matthew Falugh, Cheryl Pereira, Qi Wang, F. Holsteyns, Jeffrey T. Smith, A. Mosden, K. Kumar, J. Boemmels, J. Ryckaert, P. Biolsi, T. Hurd
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