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Proceedings of 1994 VLSI Technology Symposium - 最新文献
ClF/sub 3/ gas compound for particle free contact hole etching
Pub Date : 1994-06-07 DOI: 10.1109/VLSIT.1994.324393 S. Imai, T. Tamaki, S. Okada, M. Kubota, N. NomuraUltra-low contact resistance metallization by a silicidation technology employing a silicon capping layer for protection against contamination
Pub Date : 1994-06-07 DOI: 10.1109/VLSIT.1994.324376 K. Yamada, K. Tomita, T. OhmiDual (n/sup +p/sup +/) polycide gate technology using Si-rich WSi/sub x/ to exterminate lateral dopant diffusion
Pub Date : 1994-06-07 DOI: 10.1109/VLSIT.1994.324429 T. Fujii, S. Hashimoto, T. Hori
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