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1806
影响因子：
2.8
ISSN：
print: 2590-0072
研究领域：
Engineering-Electrical and Electronic Engineering
Gold OA文章占比：
100.00%
原创研究文献占比：
80.00%
SCI收录类型：
Emerging Sources Citation Index (ESCI) || Scopus (CiteScore) || Directory of Open Access Journals (DOAJ)
CiteScore：
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 |
|---|---|---|---|
| 3.3 | 0.489 | 0.942 | 学科 排名 百分位 大类：Engineering 小类：Electrical and Electronic Engineering 394 / 797 50% 大类：Physics and Astronomy 小类：Atomic and Molecular Physics, and Optics 117 / 224 47% 大类：Physics and Astronomy 小类：Condensed Matter Physics 229 / 434 47% 大类：Materials Science 小类：Surfaces, Coatings and Films 73 / 132 45% 大类：Materials Science 小类：Electronic, Optical and Magnetic Materials 160 / 284 43% |
发文信息
WOS期刊分区
| 学科分类 |
|---|
Q2ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC Q3MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY Q3NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY Q2OPTICS Q2PHYSICS, APPLIED |
历年影响因子
| 2023年 | 2.8000 |
|---|
历年发表
| 2018年 | 10 |
|---|---|
| 2019年 | 36 |
| 2020年 | 31 |
| 2021年 | 18 |
| 2022年 | 67 |
投稿信息
出版语言：
English
出版国家(地区)：
Netherlands
接受率：
40%
初审时长：
8 weeks
审稿时长：
80 days
发表时长：
2 weeks
论文处理费：
$1670
出版商：
Elsevier
Micro and Nano Engineering - 最新文献
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Pub Date : 2024-11-04 DOI: 10.1016/j.mne.2024.100290 Christos Tselios , Anastasios Tsakas , Simone Mazzucato , Christina Politi (Tanya) , Panagiotis Rizomiliotis , Dimitris AlexandropoulosRelease of hydrogen gas from PECVD silicon nitride thin films in cavities of MEMS sensors
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本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
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