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Extended Abstracts - 2008 8th International Workshop on Junction Technology (IWJT '08) - 最新文献
CMOS technology after reaching the scale limit
Pub Date : 2008-05-15 DOI: 10.1109/IWJT.2008.4540004 H. IwaiStudy of boron activation by flash lamp annealing from a view of depth dependence in silicon substrate
Pub Date : 2008-05-15 DOI: 10.1109/IWJT.2008.4540034 T. Aoyama, S. Kato, K. Yamaguchi, T. Onizawa, Y. Nara, Y. OhjiPlasma doping on 68nm CMOS device source/drain formations
Pub Date : 2008-05-15 DOI: 10.1109/IWJT.2008.4540007 S. Qin, A. Mcteer, J. Hu, J. Liu, D. Panda, J. Trivedi
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