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Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS, and MOEMS 2019 - 最新文献
MBMW-201: The next generation multi-beam mask writer (Conference Presentation) (Withdrawal Notice)
Pub Date : 2019-12-02 DOI: 10.1117/12.2516033 C. Klein, H. Loeschner, E. PlatzgummerNeuromorphic computing and directed self-assembly: a new pairing for old technologies (Conference Presentation)
Pub Date : 2019-08-16 DOI: 10.1117/12.2515168 B. Hoskins, J. McClellandHow Carbon’s digital light synthesis is enabling digital manufacturing of polymeric products (Conference Presentation)
Pub Date : 2019-08-16 DOI: 10.1117/12.2518189 Matthew S. Menyo
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