Proceedings of the 15th Biennial University/Government/ Industry Microelectronics Symposium (Cat. No.03CH37488)

Proceedings of the 15th Biennial University/Government/ Industry Microelectronics Symposium (Cat. No.03CH37488)
发文信息
历年影响因子
历年发表
投稿信息

Proceedings of the 15th Biennial University/Government/ Industry Microelectronics Symposium (Cat. No.03CH37488) - 最新文献

Use of the Myers-Briggs type indicator in an undergraduate microelectronics course

Pub Date : 2003-09-04 DOI: 10.1109/UGIM.2003.1225715 R. E. Pearson, A. Bell, J.R. Croley

Fabrication of an MOS Capacitor structure at NGEE ANN POLYTECHNIC's IC fabrication facility

Pub Date : 2003-09-04 DOI: 10.1109/UGIM.2003.1225755 M. Philip

In-situ depth monitoring of the deep reactive ion etch process

Pub Date : 2003-09-04 DOI: 10.1109/UGIM.2003.1225775 Y. Imura, B.X. Li, K. Farmer
查看全部
免责声明:
本页显示期刊或杂志信息,仅供参考学习,不是任何期刊杂志官网,不涉及出版事务,特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题,请联系我们,邮箱:info@booksci.cn,我们会认真核实处理。
copy
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
右上角分享
点击右上角分享
联系我们:info@booksci.cn Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。 Copyright © 2023 布克学术 All rights reserved.
京ICP备2023020795号-1
ghs 京公网安备 11010802042870号
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:604180095
Book学术官方微信