查看最新文献
订阅
分享
6784发文信息
历年影响因子
历年发表
投稿信息
SPIE Photomask Technology - 最新文献
EUV High-NA scanner and mask optimization for sub 8 nm resolution
Pub Date : 2015-11-16 DOI: 10.1117/12.2202258 J. van Schoot, K. van Ingen Schenau, G. Bottiglieri, K. Troost, J. Zimmerman, S. Migura, B. Kneer, J. Neumann, W. KaiserEUV mask infrastructure readiness and gaps for TD and HVM
Pub Date : 2015-11-11 DOI: 10.1117/12.2202724 T. Liang, J. Magana, K. Chakravorty, Eric M. Panning, Guojing ZhangAbsorber topography dependence of phase edge effects
Pub Date : 2015-11-09 DOI: 10.1117/12.2197861 A. Shanker, M. Sczyrba, B. Connolly, L. Waller, A. Neureuther
免责声明：
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
京公网安备 11010802042870号
