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12th IEEE International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors, 2004. RTP 2004. - 最新文献
Advanced doping and millisecond annealing for ultra-shallow junctions for 65 nm and beyond
Pub Date : 2004-09-28 DOI: 10.1109/RTP.2004.1441943 McCoy, Edwin, Arevalo, Daniel, DowneyInvestigation of volumetric radiation effects in lightpipe thermometry
Pub Date : 2004-09-28 DOI: 10.1109/RTP.2004.1441965 D. Frankman, B. Webb, M. JonesFormation of ultrashallow junctions in 500 eV boron implanted silicon using nonmelt laser annealing
Pub Date : 2004-09-28 DOI: 10.1109/RTP.2004.1441951 S. Earles, M. Law, K. Jones, J. Frazer, S. Talwar, D. Downey, E. Arevalo
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