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Photomask Technology - 最新文献
Functional underlayers for dose reduction and collapse mitigation in EUV lithography: a factorial analysis
Pub Date : 2023-11-21 DOI: 10.1117/12.2687546 R. Fallica, Weizhong Huang, Hyo Seon Suh, Danilo De Simone, Douglas J. Guerrero, Kodai KatoHow to improve intra-field CDU of contact hole patterns in both X-Y directions with CDC technology
Pub Date : 2023-11-21 DOI: 10.1117/12.2685350 Yilei Zeng, Xiuxuan Zhang, Levi Tang, Yingjie Wang, Pei Su, Adam Liu, Claire ZhangActinic blank inspection for high-NA EUV lithography
Pub Date : 2023-11-21 DOI: 10.1117/12.2686239 Tomohiro Suzuki, Ryo Watanabe, Shohei Sakuma, Tomoro Ide
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