期刊缩写:
Thin Solid Films
影响因子:
2
ISSN:
print: 0040-6090
研究领域:
工程技术-材料科学:膜
创刊年份:
1967年
h-index:
175
自引率:
4.80%
Gold OA文章占比:
13.66%
原创研究文献占比:
99.76%
SCI收录类型:
Science Citation Index Expanded (SCIE) || Scopus (CiteScore)
期刊介绍英文:
Thin Solid Films is an international journal which serves scientists and engineers working in the fields of thin-film synthesis, characterization, and applications. The field of thin films, which can be defined as the confluence of materials science, surface science, and applied physics, has become an identifiable unified discipline of scientific endeavor.
CiteScore:
CiteScoreSJRSNIPCiteScore排名
4.00.4000.628
学科
排名
百分位
大类:Materials Science
小类:Metals and Alloys
51 / 176
71%
大类:Materials Science
小类:Surfaces, Coatings and Films
60 / 132
54%
大类:Materials Science
小类:Electronic, Optical and Magnetic Materials
131 / 284
54%
大类:Materials Science
小类:Materials Chemistry
148 / 317
53%
大类:Physics and Astronomy
小类:Surfaces and Interfaces
28 / 57
51%
发文信息
中科院SCI期刊分区
大类 小类 TOP期刊 综述期刊
4区 材料科学
4区 材料科学:膜 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS
4区 材料科学:综合 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
4区 物理:应用 PHYSICS, APPLIED
4区 物理:凝聚态物理 PHYSICS, CONDENSED MATTER
WOS期刊分区
学科分类
Q3MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS
Q3MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
Q3PHYSICS, APPLIED
Q3PHYSICS, CONDENSED MATTER
历年影响因子
2015年1.7610
2016年1.8790
2017年1.9390
2018年1.8880
2019年2.0300
2020年2.1830
2021年2.3580
2022年2.1000
2023年2.0000
历年发表
2012年1322
2013年1515
2014年1243
2015年1002
2016年852
2017年917
2018年678
2019年682
2020年599
2021年441
2022年381
投稿信息
出版周期:
Semimonthly
出版语言:
Multi-Language
出版国家(地区):
NETHERLANDS
接受率:
28%
审稿时长:
7.5 months
发表时长:
4 days
出版商:
Elsevier
编辑部地址:
ELSEVIER SCIENCE SA, PO BOX 564, LAUSANNE, SWITZERLAND, 1001

Thin Solid Films - 最新文献

Effect of substrate temperature on the performance of Sb2Se3 thin film solar cells fabricated by chemical-molecular beam deposition method

Pub Date : 2024-11-15 DOI: 10.1016/j.tsf.2024.140565 T.M. Razykov , Lukas Schmidt-Mende , K.M. Kouchkarov , R.R. Khurramov , B.A. Ergashev , М. Makhmudov , D.Z. Isakov , M. Primmatov , R.T. Yuldoshov , Sh.B. Utamuradova

Fabrication of thin film for triple-cation perovskite via hot-bar-coating method without post-annealing process

Pub Date : 2024-11-15 DOI: 10.1016/j.tsf.2024.140563 Shogo Miyake , Genya Uzurano , Akihiko Fujii , Masanori Ozaki

Mechanism of the local destruction of the amorphous Ta2O5 layer on the surface of a tantalum anode

Pub Date : 2024-11-15 DOI: 10.1016/j.tsf.2024.140564 B.E. Pushkarev, R.M. Nikonova, V.I. Lad'ynov
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