查看最新文献
订阅
分享
1118发文信息
历年影响因子
历年发表
投稿信息
1999 4th International Symposium on Plasma Process-Induced Damage (IEEE Cat. No.99TH8395) - 最新文献
Effect of low temperature deuterium annealing on plasma process induced damage
Pub Date : 1999-12-01 DOI: 10.1109/PPID.1999.798845 S.H. Lee, Y. Kim, Y. Lee, H. Kang, C. Ahn, B. Kang, Jinju Lee, K. Cheng, Zhi Chen, K. Hess, J. LydingFast hot-carrier aging method of charging damage measurement
Pub Date : 1999-05-09 DOI: 10.1109/PPID.1999.798850 K.P. Cheung, E. J. LloydSuppression of topography dependent charging using a phase-controlled pulsed inductively coupled plasma
Pub Date : 1999-05-09 DOI: 10.1109/PPID.1999.798837 K. Shin, W. Park, Ji-Soo Kim, C. Kang, T. Ahn, J. Moon, Moonyong Lee
免责声明：
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
京公网安备 11010802042870号
