查看最新文献
订阅
分享
1848发文信息
历年影响因子
历年发表
投稿信息
Proceedings of 1st International Symposium on Plasma Process-Induced Damage - 最新文献
Slight Etching of Silicon to Control Post-RIE Damage
Pub Date : 1996-05-14 DOI: 10.1109/PPID.1996.715222 D. Hwang, K. Torek, J. RuzylloReduction of the charging damage from electron shading
Pub Date : 1996-05-14 DOI: 10.1109/PPID.1996.715199 K. Hashimoto, Y. Hikosaka, A. Hasegawa, M. NakamuraIon-implantation-induced damage to gate oxide due to charge injection and ion bombardment
Pub Date : 1996-05-14 DOI: 10.1109/PPID.1996.715239 K. Marneno, H. Nagasawa, A. Nishida, H. Fujiwara
免责声明：
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
京公网安备 11010802042870号
