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2008 International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM) - 最新文献
Reducing contamination of particles reflected in turbo molecular pump
Pub Date : 2008-10-01 DOI: 10.1109/ASMC.2009.5155990 Hiroyuki Kobayashi, K. Maeda, M. IzawaLithography hotspot discovery at 70nm DRAM 300mm fab: Process Window Qualification using Design Base Binning
Pub Date : 2008-10-01 DOI: 10.1117/12.804563 Ray Yen, Daniel Chen, Mingjen Cheng, Andy Lan, Damian Chen, R. Ghaskadvi, E. ChangGoing green with on-site generated fluorine: Sustainable cleaning agent for CVD processes
Pub Date : 2008-10-01 DOI: 10.1109/ASMC.2009.5155996 P. Stockman, Greg Shuttleworth
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