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5214中文名称：
今日材料物理学
期刊缩写：
Mater. Today Phys.
影响因子：
10
ISSN：
print: 2542-5293
研究领域：
Materials Science-General Materials Science
自引率：
7.80%
Gold OA文章占比：
12.58%
原创研究文献占比：
98.62%
SCI收录类型：
Science Citation Index Expanded (SCIE) || Scopus (CiteScore)
期刊介绍英文：
Materials Today Physics is a multi-disciplinary journal focused on the physics of materials, encompassing both the physical properties and materials synthesis. Operating at the interface of physics and materials science, this journal covers one of the largest and most dynamic fields within physical science. The forefront research in materials physics is driving advancements in new materials, uncovering new physics, and fostering novel applications at an unprecedented pace.
期刊介绍中文：
《Materials Today Physics》由Elsevier出版，缩写为Mater. Today Phys.。它是一本专注于材料物理学的多学科期刊，涵盖物理性质和材料合成。该期刊处于物理学和材料科学的交叉领域，涵盖了物理科学中最大、最具活力的领域之一。材料物理的前沿研究正在以前所未有的速度推动新材料的进步、发现新的物理现象并培育新的应用。
CiteScore：
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 |
|---|---|---|---|
| 14.0 | 2.304 | 1.633 | 学科 排名 百分位 大类：Physics and Astronomy 小类：Physics and Astronomy (miscellaneous) 2 / 81 98% 大类：Materials Science 小类：General Materials Science 49 / 463 89% 大类：Energy 小类：Energy (miscellaneous) 9 / 78 89% |
发文信息
中科院SCI期刊分区
| 大类 | 小类 | TOP期刊 | 综述期刊 |
|---|---|---|---|
| 2区 材料科学 |
1区
物理：应用
PHYSICS, APPLIED
2区
材料科学：综合
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
|
否 | 否 |
WOS期刊分区
| 学科分类 |
|---|
Q1MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY Q1PHYSICS, APPLIED |
历年影响因子
| 2019年 | 10.4430 |
|---|---|
| 2020年 | 9.2980 |
| 2021年 | 11.0210 |
| 2022年 | 11.5000 |
| 2023年 | 10.0000 |
历年发表
| 2017年 | 32 |
|---|---|
| 2018年 | 42 |
| 2019年 | 55 |
| 2020年 | 95 |
| 2021年 | 240 |
| 2022年 | 284 |
投稿信息
出版语言：
English
出版国家(地区)：
NETHERLANDS
接受率：
20%
初审时长：
1 weeks
审稿时长：
15 days
发表时长：
2 weeks
论文处理费：
$4250
出版商：
Elsevier
编辑部地址：
RADARWEG 29, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1043 NX
Materials Today Physics - 最新文献
Atomic Imprint Crystallization: Externally-Templated Crystallization of Amorphous Silicon
Pub Date : 2024-11-21 DOI: 10.1016/j.mtphys.2024.101599 Koichi Tanaka, Connor P. Horn, Jianguo Wen, Rachel E. Koritala, Supratik GuhaMist CVD Technology for Gallium Oxide Deposition: A Review
Pub Date : 2024-11-21 DOI: 10.1016/j.mtphys.2024.101604 Suhao Yao, Yifan Yao, Maolin Zhang, Xueqiang Ji, Shan Li, Weihua TangAnderson disorder related p-type conductivity and metal-insulator transition in β-Ga2O3
Pub Date : 2024-11-20 DOI: 10.1016/j.mtphys.2024.101602 Zeyu Chi, Se-Rim Park, Luka Burdiladze, Tamar Tchelidze, Jean-Michel Chauveau, Yves Dumont, Sang-Mo Koo, Zurab Kushitashvili, Amiran Bibilashvili, Gérard Guillot, Amador Pérez-Tomás, Xin-Ying Tsai, Fu-Gow Tarntair, Ray Hua Horng, Ekaterine Chikoidze
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本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
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