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45645中文名称：
日本应用物理学杂志
期刊缩写：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
1.5
ISSN：
print: 0021-4922
on-line: 1347-4065
on-line: 1347-4065
研究领域：
物理-物理：应用
h-index：
116
自引率：
26.70%
Gold OA文章占比：
9.51%
原创研究文献占比：
94.64%
SCI收录类型：
Science Citation Index Expanded (SCIE) || Scopus (CiteScore)
期刊官网：
期刊介绍英文：
The Japanese Journal of Applied Physics (JJAP) is an international journal for the advancement and dissemination of knowledge in all fields of applied physics. JJAP is a sister journal of the Applied Physics Express (APEX) and is published by IOP Publishing Ltd on behalf of the Japan Society of Applied Physics (JSAP).
JJAP publishes articles that significantly contribute to the advancements in the applications of physical principles as well as in the understanding of physics in view of particular applications in mind. Subjects covered by JJAP include the following fields:
• Semiconductors, dielectrics, and organic materials
• Photonics, quantum electronics, optics, and spectroscopy
• Spintronics, superconductivity, and strongly correlated materials
• Device physics including quantum information processing
• Physics-based circuits and systems
• Nanoscale science and technology
• Crystal growth, surfaces, interfaces, thin films, and bulk materials
• Plasmas, applied atomic and molecular physics, and applied nuclear physics
• Device processing, fabrication and measurement technologies, and instrumentation
• Cross-disciplinary areas such as bioelectronics/photonics, biosensing, environmental/energy technologies, and MEMS
CiteScore：
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 |
|---|---|---|---|
| 3.0 | 0.307 | 0.631 | 学科 排名 百分位 大类：Engineering 小类：General Engineering 119 / 307 61% 大类：Physics and Astronomy 小类：General Physics and Astronomy 108 / 243 55% |
发文信息
中科院SCI期刊分区
2025年3月20日发布
| 大类 | 小类 | TOP期刊 | 综述期刊 |
|---|---|---|---|
| 4区 物理与天体物理 | 4区 物理：应用 PHYSICS, APPLIED | 否 | 否 |
2023年12月发布
| 大类 | 小类 | TOP期刊 | 综述期刊 |
|---|---|---|---|
| 4区 物理与天体物理 |
4区
物理：应用
PHYSICS, APPLIED
|
否 | 否 |
WOS期刊分区
| 学科分类 |
|---|
Q3PHYSICS, APPLIED |
历年影响因子
| 2015年 | 1.1220 |
|---|---|
| 2016年 | 1.3840 |
| 2017年 | 1.4520 |
| 2018年 | 1.4710 |
| 2019年 | 1.3760 |
| 2020年 | 1.4800 |
| 2021年 | 1.4910 |
| 2022年 | 1.5000 |
| 2023年 | 1.5000 |
历年发表
| 2012年 | 3730 |
|---|---|
| 2013年 | 1780 |
| 2014年 | 1702 |
| 2015年 | 1445 |
| 2016年 | 1558 |
| 2017年 | 1300 |
| 2018年 | 1419 |
| 2019年 | 1428 |
| 2020年 | 1095 |
| 2021年 | 885 |
| 2022年 | 818 |
投稿信息
出版周期：
Monthly
出版语言：
English
出版国家(地区)：
JAPAN
接受率：
81%
审稿时长：
3.5 months
论文处理费：
￥2542
出版商：
Japan Society of Applied Physics
编辑部地址：
JAPAN SOC APPLIED PHYSICS, KUDAN-KITA BUILDING 5TH FLOOR, 1-12-3 KUDAN-KITA, CHIYODA-KU, TOKYO, JAPAN, 102-0073
Japanese Journal of Applied Physics - 最新文献
Research on optical properties of Eu3+ doped bismuth silicate crystals based on first principles
Pub Date : 2024-09-18 DOI: 10.35848/1347-4065/ad7554 Xuefeng Xiao, Yan Huang, Yan Zhang, Jiashun Si, Shuaijie Liang, Qingyan Xu, Huan Zhang, Lingling Ma, Cui Yang, Xuefeng Zhang, Jiayue Xu, Tian Tian and Hui ShenThick piezoelectric films by aerosol deposition at room temperature: corona poling and force sensing
Pub Date : 2024-09-18 DOI: 10.35848/1347-4065/ad6e96 Kohei Maruyama, Yoshihiro Kawakami and Fumio NaritaEffect of gas injection pattern on magnetically expanding rf plasma source
Pub Date : 2024-09-18 DOI: 10.35848/1347-4065/ad6e92 Yugo Nakahama and Kazunori Takahashi
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本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
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