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Extreme Ultraviolet Lithography 2020 - 最新文献
Engineering novel mask absorber materials for next-generation EUVL
Pub Date : 2020-09-20 DOI: 10.1117/12.2573112 P. NaujokMultilayer optimization for high-NA EUV mask3D suppression
Pub Date : 2020-09-20 DOI: 10.1117/12.2574450 E. V. Setten, K. Rook, H. Mesilhy, F. Timmermans, G. Bottiglieri, Meng H. Lee, A. Erdmann, T. Brunner
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