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318期刊缩写：
Chem. Vap. Deposition
ISSN：
print: 0948-1907
on-line: 0948-1907
on-line: 0948-1907
研究领域：
工程技术-材料科学：膜
Gold OA文章占比：
0.00%
原创研究文献占比：
0.00%
期刊介绍英文：
Chemical Vapor Deposition (CVD) publishes Reviews, Short Communications, and Full Papers on all aspects of chemical vapor deposition and related technologies, along with other articles presenting opinion, news, conference information, and book reviews. All papers are peer-reviewed. The journal provides a unified forum for chemists, physicists, and engineers whose publications on chemical vapor deposition have in the past been spread over journals covering inorganic chemistry, materials chemistry, organometallics, applied physics and semiconductor technology, thin films, and ceramic processing.
发文信息
历年影响因子
历年发表
| 2012年 | 64 |
|---|---|
| 2013年 | 68 |
| 2014年 | 63 |
| 2015年 | 59 |
| 2016年 | 1 |
| 2017年 | 0 |
| 2018年 | 0 |
| 2019年 | 0 |
| 2020年 | 0 |
| 2021年 | 0 |
| 2022年 | 0 |
投稿信息
出版周期：
Bimonthly
出版国家(地区)：
GERMANY
审稿时长：
>12 weeks
出版商：
John Wiley & Sons Ltd.
编辑部地址：
WILEY-V C H VERLAG GMBH, PO BOX 10 11 61, WEINHEIM, GERMANY, D-69451
Chemical Vapor Deposition - 最新文献
Low Temperature PureB Technology for CMOS Compatible Photodetectors
Pub Date : 2016-08-31 DOI: 10.5772/63344 V. Mohammadi
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本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
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