全新3D纳米打印，登上Nature！

背景：在微电子、光子学等前沿领域，复杂三维微纳结构的制造是关键，但传统双光子光刻技术受限于物镜视场，在分辨率、速度和制造面积之间存在根本性妥协，导致大尺度结构依赖低效拼接，制约了其工程化应用。研究目的：为突破这一瓶颈，研究团队提出一种全新的并行3D纳米光刻范式，旨在实现厘米级、无拼接、高分辨率和高通量的三维纳米制造。结论：该研究利用大面积金属透镜阵列替代传统物镜，结合空间光调制器实现可编程焦点阵列，在12 cm²面积内同时产生超12万个焦点，打印速度达108 voxels·s⁻¹，最小特征尺寸113 nm，成功实现了无拼接的厘米级复杂结构打印，并通过自适应光刻策略处理了非周期结构，展示了在机械超材料等领域的应用潜力，为晶圆级三维纳米制造开辟了新路径。