LAM综述：KHₓD₂₋ₓPO₄晶体：迈向惯性约束聚变能的关键

本文聚焦惯性约束聚变(ICF)装置中KH₂D₂₋ₓPO₄晶体光学元件的激光损伤问题。背景方面，ICF作为清洁能源关键技术，其发展受限于光学元件在高通量激光下的损伤。研究目的旨在综述先进光学制造技术对KH₂D₂₋ₓPO₄晶体损伤前驱体的调控方法，包括全口径抑制技术（如超精密飞切、离子束刻蚀）和局部修复技术（如微铣削、蘸笔纳米光刻）。结论指出，通过工艺协同优化、多模态原位表征、损伤前驱体性能映射建模及全口径评估系统构建，可提升元件抗损伤性能，推动ICF装置向高能量增益目标迈进。