ReSTOLO：用于精准识别表面分子异构体和非常相似分子的两阶段机器视觉识别框架 | 进展

背景：扫描隧道显微镜（STM）是制备低维碳基材料的关键工具，但实现自动化面临相似分子识别难题。研究目的：开发ReSTOLO两阶段机器视觉框架，解决STM图像中相似分子识别的小样本、无超结构等挑战。结论：该框架通过定位与分类分离、检测框归一化和数据增强策略，在六类分子体系中实现超过85%的识别精度，为表面科学自动化提供有效工具。