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浙江大学ACS Nano：新型倍半硅氧烷光刻胶实现高灵敏度与稳定性！

高分子科学前沿 2025-10-29 08:30

文章摘要

背景：随着摩尔定律推动晶体管微型化，极端紫外光刻技术成为实现亚7纳米节点的关键技术，但现有氢倍半硅氧烷光刻胶存在热力学不稳定性和灵敏度不足的问题。研究目的：浙江大学团队开发部分烷基取代的倍半硅氧烷光刻胶，通过集成光酸发生器提升性能。结论：新型光刻胶在电子束光刻下实现14纳米分辨率，灵敏度达4.3μC/cm²，凝胶期延长至360天，通过光酸催化交联和抑制亲核攻击的双重机制，显著提升了灵敏度和稳定性，满足先进半导体制造需求。

浙江大学ACS Nano：新型倍半硅氧烷光刻胶实现高灵敏度与稳定性！

查看文献： Norbornene and Epoxide-Substituted Silsesquioxane Photoresists with High-Sensitivity and Stability
查看期刊： ACS Nano

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