复旦大学梅永丰，复旦大学义乌研究院石建军、颜光辉AMI综述：面向功能纳米粉末的原子层沉积反应腔设计与表面改性

本文综述了原子层沉积（ALD）技术在纳米粉末表面改性中的应用。背景方面，功能纳米粉末因其大比表面积展现优异特性，在能源、催化等领域应用广泛，但实现工业化面临技术可行性、经济性和可放大生产三大挑战。研究目的上，文章系统梳理粉末ALD反应腔设计，重点分析流化床和大气压空间ALD的构型特点，比较时间ALD与空间ALD的优劣。结论指出ALD已在锂电材料、催化剂等领域取得创新应用，未来需发展高通量反应腔设计，结合原子层刻蚀技术，拓展金属粉末等新兴应用方向。