【实验步骤】ATP 活性及 DNA 泄漏
纳米材料催化
2025-10-18 08:00
文章摘要
本研究背景聚焦于开发具有光热和抗菌协同作用的植入物表面保护涂层。研究目的是评估CuS@PTB包覆的钛表面对细菌ATP活性和DNA泄漏的影响,以验证其抗菌性能。通过将细菌悬液与原始或包覆的钛表面共培养,并进行近红外激光处理,实验结果显示,激光处理组(L+)的ATP水平显著降低,且DNA泄漏增加,表明纳米材料涂层在光热作用下能有效破坏细菌代谢和膜完整性。结论证实,CuS@PTB涂层通过光热效应增强抗菌活性,为植入物表面防护提供了新策略。
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