Light | 极弱扰动！极端约束光场的近场成像与表征

背景：纳米尺度极端约束光场在基础光学和光学技术中具有重要作用，但传统扫描近场光学显微镜在表征亚10nm约束光场时存在显著扰动和信号衰减问题。研究目的：利用光发射电子显微镜（PEEM）实现纳米狭缝中极端约束光场的无扰动近场成像与表征，并识别样品缺陷。结论：通过构建1nm狭缝的耦合纳米线结构，成功观测到0.4nm约束尺度的光场分布，验证了PEEM在极端约束光场表征中的优势，为相关光学器件开发奠定基础。