重磅亮相——玉之泉国产高端紫外直写光刻系统全面就位

本文介绍了玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统在光电博览会上的亮相。背景方面，该系统突破了传统掩模加工限制，解决了研发周期长和成本高的问题。研究目的旨在展示该系统在半导体、生物医疗和微光学等领域的应用价值，通过超精细加工、高稳定性和灵活性满足复杂微纳结构的快速原型验证需求。结论指出，该设备成功打破了欧美技术垄断，为相关行业提供了可靠的国产高端工具支撑，推动了技术创新和产业化应用。