激光诱导石墨烯新突破-武汉理工大学Nano Res.:低方阻激光分步诱导石墨烯实现电磁屏蔽调控

材料人 2025-10-04 10:06
文章摘要
本文针对激光诱导石墨烯(LIG)因结构缺陷导致电学性能不足的问题,提出了一种激光分步诱导石墨烯(LSIG)策略。研究背景是柔性电子器件需要高效简易的材料制备技术,而传统修复方法会破坏基底或增加工艺复杂度。研究目的是通过聚焦与离焦激光组合加工,修复石墨烯缺陷并提升结晶度,从而降低方阻至15.0 Ω sq⁻¹,改善电学性能。结论表明,该方法实现了电磁屏蔽性能从无到有的突破,在频率选择表面应用中有效屏蔽带宽达4.92 GHz,并具备良好的化学和力学稳定性,为电子与电磁器件的功能薄膜制备提供了新方案。
激光诱导石墨烯新突破-武汉理工大学Nano Res.:低方阻激光分步诱导石墨烯实现电磁屏蔽调控
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