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中国科学院大学（国科大）杭州高等研究院和浙江大学团队LPR：磁控共溅射结合湿法刻蚀制备高性能宽带广角梯度折射率抗反射薄膜

MaterialsViews 2025-09-05 08:30
文章摘要
背景：梯度折射率薄膜在光伏和光学器件中具有重要应用价值，但传统制备技术存在均匀性差、工艺复杂等产业化瓶颈。研究目的：开发一种低成本、高稳定性的高性能宽带广角抗反射薄膜制备工艺。结论：研究团队通过磁控共溅射二氧化硅-氧化铝多层膜结合磷酸溶液选择性刻蚀，成功制备出纳米多孔梯度折射率薄膜，在400-2000 nm宽带谱和0°-70°广角范围内实现优异抗反射性能，平均反射率低至0.5%，且在极端环境下保持稳定，能显著提升太阳能电池的光电转换效率，具有产业化应用前景。
中国科学院大学（国科大）杭州高等研究院和浙江大学团队LPR：磁控共溅射结合湿法刻蚀制备高性能宽带广角梯度折射率抗反射薄膜
查看文献： High-Performance and Low-Cost Gradient Refractive Index Films for Ultra-Broadband and Ultra-Wide Angle Antireflective Applications
查看期刊： Laser & Photonics Reviews
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