北交大滕枫/唐爱伟团队Light | 图案化QLED显示的无损直接光刻技术

背景：量子点材料因其优异的光电特性成为显示技术的关键材料，但传统光刻技术会损害量子点性能。研究目的：开发基于刚性桥联结构光交联剂CPTA的无损直接光刻技术，实现高分辨率量子点图案化且保持光电性能。结论：该技术成功制备出分辨率达6,350 PPI、最小线宽1微米的红绿蓝三基色图案，QLED器件外量子效率保持21%，柔性基板兼容性强，为下一代超高清柔性显示提供新路径。