苏州大学迟力峰、黄丽珍、谢淼SMTD:六方氮化硼上C₆₀薄膜的分形生长及其高效电荷传输特性
MaterialsViews
2025-08-18 08:57
文章摘要
本文研究了在六方氮化硼(h-BN)基底上C₆₀薄膜的分形生长及其电荷传输特性。背景方面,有机半导体器件的性能受分子层结晶度和形态影响,而h-BN作为一种理想的基底,能优化有机薄膜的生长。研究目的是探究C₆₀薄膜在h-BN上的生长机制及其对器件性能的影响。实验发现,随着基底温度升高,C₆₀薄膜的晶畴尺寸增大,形态从团聚转变为分形结构,最佳温度为180°C。此外,基于h-BN上生长的C₆₀薄膜的晶体管表现出高迁移率和快速光响应。结论表明,h-BN基底能显著提升有机薄膜的结晶质量和器件性能,为有机电子应用提供了新思路。
本站注明稿件来源为其他媒体的文/图等稿件均为转载稿,本站转载出于非商业性的教育和科研之目的,并不意味着赞同其观点或证实其内容的真实性。如转载稿涉及版权等问题,请作者速来电或来函联系。