清华大学&江南大学Sci.Adv.:聚碲氧烷作为EUV光刻胶的理想配方
材料人
2025-07-31 09:10
文章摘要
清华大学化学系许华平教授团队开发出一种基于聚碲氧烷的新型EUV光刻胶,解决了当前EUV光刻胶在吸收效率、反应机制和缺陷控制等方面的挑战。该研究通过将高EUV吸收元素碲引入高分子骨架,利用Te─O键的低解离能实现主链断裂,从而提升光刻胶的灵敏度和均一性。这一成果为下一代EUV光刻胶的设计提供了新思路,有望推动先进半导体工艺的发展。
本站注明稿件来源为其他媒体的文/图等稿件均为转载稿,本站转载出于非商业性的教育和科研之目的,并不意味着赞同其观点或证实其内容的真实性。如转载稿涉及版权等问题,请作者速来电或来函联系。