大连理工彭孝军院士团队：杂化烷基配体锡氧簇：通过分子内协同作用提升光刻性能

本文介绍了大连理工大学彭孝军院士团队在金属氧化物光刻胶（MORs）领域的研究成果。研究背景是极紫外光刻（EUVL）技术对高分辨率与高灵敏度材料的需求，当前MORs材料在实际应用中仍面临关键难题。研究目的是通过在同一Sn4氧簇结构中引入甲基和丁基两种不同烷基配体，构建杂化锡氧簇材料Sn4-MB，以实现高分辨率与低反应扩散的协同优化。研究结果表明，Sn4-MB在电子束光刻（EBL）和极紫外光刻（EUVL）条件下均表现出优异的图形分辨率和线边粗糙度，验证了分子内协同增强效应。结论是该研究为下一代EUV光刻材料研发提供了理论与实验支撑。