曹良才等Light | 人工智能赋能逆向光刻技术

本文综述了人工智能驱动的逆向光刻技术在半导体制造中的应用和发展。背景方面，随着摩尔定律的推进，光刻技术面临分辨率提升的技术瓶颈和成本压力，逆向光刻技术凭借其全局优化特性成为研究热点。研究目的上，文章详细分析了人工智能技术在光刻建模、掩模优化等环节的应用，包括卷积神经网络、生成对抗网络等深度学习模型的引入，提升了计算效率和成像质量。结论部分指出，尽管逆向光刻技术仍面临计算效率、掩模制造等挑战，但通过人工智能融合、模型算法优化和掩模制造技术的协同创新，未来有望实现全芯片级优化和更高效的光刻解决方案。