半导体光催化—带隙工程
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2025-05-14 18:52
文章摘要
本文探讨了半导体光催化技术中的带隙工程及其对光催化性能的影响。背景方面，全球能源危机和环境污染问题促使半导体光催化技术成为研究热点，但其性能受限于带隙结构。研究目的旨在通过带隙工程调控半导体的带隙宽度和带边位置，以拓展光吸收范围并优化载流子分离和迁移能力。结论表明，元素掺杂、原子缺陷、施加应变、异质结调控和电场调控等方法能有效调控能带结构，提升光催化性能。此外，高精度带隙预测和动态过程模拟等理论挑战仍需进一步研究。
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