复旦蔡文斌与厦大杨晓晖团队：解码钴电沉积超填充有机添加剂的界面结构与功能

本文介绍了复旦大学蔡文斌与厦门大学杨晓晖团队在钴电沉积领域的研究成果。随着芯片制程微缩，钴金属成为新一代互连材料。研究团队通过原位ATR−SEIRAS、电化学测量、DFT计算和MD模拟，发现添加剂MBIS通过硫醇基近乎垂直吸附于钴表面，抑制钴沉积法拉第效率，并揭示了其覆盖度的动态差异是实现钴超填充的关键。该研究首次获得钴电镀添加剂界面吸附的直接红外谱学证据，为构建基于吸附动力学的填充仿真模型提供了理论基础。