化学气相沉积（CVD）技术解读！

本文详细介绍了化学气相沉积（CVD）技术的基本原理、类型、应用及特点。CVD技术是一种通过气相物质在基材表面发生化学反应形成薄膜镀层的表面处理技术，广泛应用于耐磨、抗氧化、抗腐蚀等领域。文章从CVD的基本过程、反应条件、反应物状态、沉积反应类型等多个角度进行了深入解析，并比较了不同CVD技术的优缺点及其在半导体工业中的应用实例。此外，文章还通过案例分析展示了CVD技术在二维MOF单层可控生长和电子开关行为实现中的创新性应用。