【CCS Chem.】彭孝军院士团队：通过精准调节光刻胶金属氧簇分子中的配体配位模式优化材料光刻性能的研究

本研究由大连理工大学彭孝军院士团队开展，系统探究了有机配体配位模式（螯合μ₁与桥接μ₂）对锆氧簇光刻性能的影响。研究背景是随着半导体工艺向2 nm工艺节点的迈进，极紫外光刻（EUVL）对光刻胶的分辨率、灵敏度及蚀刻抗性提出了更高要求。研究目的是通过精确调控μ₁/μ₂比例，探索其对光刻性能的原子级影响机制。研究结果表明，μ₁比例高的簇展现出更高灵敏度，而μ₂比例高的簇则具有更优分辨率。在电子束光刻（EBL）中实现了15 nm线宽，在EUVL中达到30 nm线宽，性能超越多数金属氧簇光刻胶。此外，材料表现出高蚀刻抗性，为新型锆基光刻胶的设计提供了理论指导。