非线性光学前沿SCI 2024 11.25-11.30

本文探讨了非线性光学（NLO）领域的最新研究进展，特别是二次谐波生成（SHG）技术的应用和发展。文章首先介绍了量化面内应变对二硫化钼二次谐波产生的影响，提出了一种新的量化方法，并通过实验验证了其可靠性。接着，文章讨论了极紫外光刻技术（EUVL）在半导体制造中的应用，强调了其在提高精度和降低缺陷率方面的优势。此外，文章还探讨了高有序铁电混合包晶畴中可切换的平面手性和自旋纹理的研究，展示了其在非线性气致光学应用中的潜力。最后，文章介绍了机器学习在非线性光学材料探索中的应用，展示了通过机器学习模型预测材料性能的有效性。