(纯计算)西湖大学刘仕团队Phys. Rev. Lett.: 铁电HfO2中间隙掺杂诱导矫顽场降低的起源
计算材料学
2025-02-08 08:00
文章摘要
本文介绍了西湖大学刘仕教授课题组在Phys. Rev. Lett.上发表的研究，探讨了铁电HfO2中间隙掺杂如何诱导矫顽场降低的机制。研究背景基于二氧化铪（HfO2）作为非易失性铁电存储器件的潜力，但高矫顽场限制了其应用。研究目的是通过密度泛函理论（DFT）计算和大尺度深度势分子动力学模拟，揭示间隙Hf掺杂剂如何通过促进极化反转来降低矫顽场。研究结论表明，中等浓度的间隙Hf掺杂剂可以显著降低转换场，并在亚纳秒时间尺度上实现转换，为矫顽场优化提供了新的策略。
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