前沿研究 | 追溯 EUV 光刻技术的发展历程

本文探讨了极紫外（EUV）光刻技术的发展历程，从20世纪80年代的研究开始，到2019年首次商用产品的问世。文章回顾了日本、美国和欧洲在EUV技术研究中的合作与竞争，特别强调了美国的经验教训。通过案例研究，文章揭示了促进和保护新兴技术的关键因素，并提出了识别新兴技术信号的框架。最终，文章启示政策制定者在识别和支持新兴技术时需灵活应对，以平衡创新与国家安全之间的关系，确保在全球技术竞争中保持领先地位。