成果 | 叶堉课题组与合作者开发二维半导体薄膜中的精准pn掺杂技术
北大物理人
2024-11-08 17:07
文章摘要
北京大学物理学院叶堉课题组与合作者开发了一种在二维半导体碲化钼薄膜中实现精准p型和n型掺杂的共溅射技术。该技术不仅能够在碲化钼薄膜中进行空间区域的选择性掺杂，还能将p型和n型的碲化钼薄膜集成在单一基底上。通过这种技术，研究团队成功制造出芯片尺寸的二维互补型反相器电路阵列，展示了二维半导体材料在大规模集成电路中的应用潜力。研究成果发表于《自然·通讯》，为二维半导体材料在单片集成互补型电路领域中的应用提供了新的技术支持。
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